牛尾全新 UV 曝光光源上线，将为光刻行业带来哪些改变？

近期，北崎国际贸易（北京）有限公司作为牛尾（USHIO）华北地区重要合作伙伴，正式推出UXM-501MD深紫外超高压汞灯，专为半导体封装基板用步进机开发。

随着封装基板向高密度、细线路方向发展，传统光源在深紫外波段的输出强度与稳定性已难以满足高分辨率曝光需求。光刻胶敏感响应区间多集中于深紫外波段，光源光谱与其匹配度直接影响曝光效率和图案精度。

UXM-501MD采用氙气灯基底填充水银蒸气的技术路线，有效辐射波长集中于230–320nm深紫外波段，匹配光刻胶敏感响应区间。灯管电极间冷距仅3.0mm，接近理想点光源，便于光学系统高效聚光与均匀照明。500W功率等级下，1米处210–300nm波段水平辐照度达280μW/cm²，平均寿命600小时。

该产品结合牛尾大面积投影透镜技术与TTL非曝光波长对准方法，可实现线距5μm的高分辨率曝光及±50至100μm深景深，有效应对基板台阶、翘曲带来的对焦偏差。

北崎国际贸易（北京）有限公司作为牛尾华北地区重要合作伙伴，为半导体封装、液晶显示及PCB制造企业提供从光源选型、应用方案设计到售后保障的本地化服务。